光學(xué)薄膜清洗用超純水設備在設計上，采用成熟、可靠、先進(jìn)、自動(dòng)化程度高的兩級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關(guān)鍵設備及材料均采用國際主流先進(jìn)可靠產(chǎn)品，采用PLC控制，全套系統自動(dòng)化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經(jīng)濟合理。